高速合成的金刚石薄膜性能  

Properties of Diamond Films by High Rate Deposition

作　　者：阎震[1] 施海良 唐森[1] 李荣志[1] 朱鹤孙[1] 

机构地区：[1]北京理工大学材料科学研究中心

出　　处：《高技术通讯》1991年第5期17-19,共3页Chinese High Technology Letters

关 键 词：金刚石薄膜 薄膜性能 合成 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学]