改良闭口式与开口二次印模在下颌全义齿修复中的比较  

作　　者：何水永 

机构地区：[1]杭州市第三人民医院口腔科,310000

出　　处：《浙江临床医学》2014年第2期269-271,共3页Zhejiang Clinical Medical Journal

摘　　要：固位与稳定一直是下颌总义齿修复的难点。这类患者下颌剩余牙槽嵴常呈低平状、刀刃状、低凹状、或为纤维牙嵴，黏膜附着点接近牙槽嵴顶或与之水平，牙槽黏膜厚薄不一，易产生压痛。临床上，良好的印模在修复牙槽嵴低平的下无牙颌患者修复过程中非常重要。本文对47例牙槽嵴低平的下无牙颌患者分成两组，采用改良闭口式印模法和传统开口二次印模法，比较患者的满意度及临床调改情况。

关 键 词：总义齿修复 二次印模法 下颌 改良 剩余牙槽嵴 牙槽嵴低平 闭口式印模法 牙槽嵴顶 

分 类 号：R783.6[医药卫生—口腔医学]