Ge_x Si_(1-x)/Si超晶格中纵声学声子的喇曼散射强度研究  

Investigation on the Raman Scattering Intensity of Longitudinal Acoustic phonons in Ge_x Si_(1-x) /Si Superlattices

作　　者：金鹰[1] 候永田 秦国刚[2] 张树霖[1] 周国良[3] 俞鸣人 

机构地区：[1]北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室 [2]北京大学物理系,北京100871 [3]复旦大学表面物理实验室,上海200433

出　　处：《光散射学报》1991年第1期14-18,共5页The Journal of Light Scattering

摘　　要：本文用光弹理论,在全面考虑了超晶格中两种材料的声速,质量密度和光弹常数存在差别的基础上,计算了Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格中折迭纵声学声子的喇曼散射强度,在高达50cm^(-1)的频率范围内,理论值和实验符合得很好。We have investigated the Raman scattering intensity of the folded longitudinal acoustic phonons in Ge_x Si_(1-x) / Si superlattices with photoelastic mechanism, taking into account the differences between the acoustic and photoelastic parameters of component materials. The theoretical results fitted the experiments with good precision up to about 50cm^(-1).

关 键 词：超晶格 折迭声学声子 喇曼散射 

分 类 号：O735[理学—晶体学]