多源PCVD合成SiNx—SiOy和SiNx—SiCy复合膜  

作　　者：蓉佳 

出　　处：《等离子体应用技术快报》2000年第9期8-10,共3页

关 键 词：复合膜 多源等离子体化学气相沉积 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]