XPS研究Nd表面氧化物的生长过程  

A STUDY ON OXIDE FILM GROWTH ON Nd SURFACE USING XPS

作　　者：李雅[1] 陈玲燕[1] 张哲[1] 吴永刚[1] 乔轶 徐炜新 

机构地区：[1]同济大学波耳固体物理研究所,上海200092 [2]上海金属实验室,上海200940

出　　处：《物理学报》2001年第1期79-82,共4页Acta Physica Sinica

基　　金：国家高技术研究发展计划!(批准号 :86 3 410 3 9)资助的课题&&

摘　　要：用X射线光电子能谱 (XPS)研究新鲜Nd表面在不同氧气和空气进气量的情况下 ,表面氧化物的生长过程 .发现氧化层由氧化物、氢氧化物及表面化学吸附水三种成分 ,这三种成分的增加与进气量都存在正比对数关系 ,氧化物和吸附水在一定进气量后趋于饱和 ,而氢氧化物持续不断增加 ,最终氢氧化物占据主要地位 .X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) has been used to follow oxide film growth on pure Nd surface over a wide range of exposure to oxygen and air. Oxide film was noticed to consist of oxide, hydroxide and chemically absorbed water, all of which exhibited logarithmic-type growth kinetics. The oxide and chemically absorbed water stop growing after a certain exposure, whereas the hydroxide,which plays a significant role ultimately, shows continued and persistent growth.

关 键 词：X射线光电子能谱 氧化 钕 表面氧化物 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]