LOCATOR附着体和改良式印模法在下颌全口覆盖义齿中的临床应用  

作　　者：吴桂萍 冯晓苏 

机构地区：[1]杭州口腔医院综合科,浙江杭州310006

出　　处：《口腔医学》2014年第3期233-235,共3页Stomatology

摘　　要：目的探讨LOCATOR附着体和改良式印模法的联合应用在下颌牙槽嵴低平患者全口义齿的临床应用。方法选8例下颌牙槽嵴低平的无牙颌患者,于下颌尖牙区植入ITI种植体,种植体骨整合良好后用改良式印模法进行LOCATOR附着体全口义齿修复,于0、3、6、12月进行全口义齿满意度调查。结果下颌全口覆盖义齿稳定性较高,患者满意度提高。结论改良印模法和LOCATOR附着体联合应用于下颌牙槽嵴低平无牙颌患者,可明显增加义齿固位力,患者满意度较高。

关 键 词：下颌覆盖全口义齿 LOCATOR附着体 固位 改良印模 

分 类 号：R783.4[医药卫生—口腔医学]