对向靶溅射α″-Fe_(16)N_(2)薄膜的结构与磁性  

Structure and Magnetic Properties of the α″-Fe_(16)N_(2) Thin Films by FTS

作　　者：许英华[1] 姜恩永 侯登录[1,2] 

机构地区：[1]天津大学理学院应用物理学系 [2]河北师范大学物理系,石家庄050016

出　　处：《河北师范大学学报（自然科学版）》2000年第4期459-461,共3页Journal of Hebei Normal University：Natural Science

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50072015)

摘　　要：用对向靶反应溅射法制备了α″-Fe1 6 N2 薄膜 ,用 X射线衍射 ( XRD)和振动样品磁强计 ( VSM)对其结构、磁性进行了分析讨论 。We describe the α″ Fe 16 N 2 thin films prepared by facing targets sputtering,and study its structure and magnetic properties by XRD and VSM.It shows the high saturation magnetization related closely with the size of the unit cell of α″ Fe 16 N 2.

关 键 词：饱和磁化强度 对向靶溅射 Fe_(16)N_(2)薄膜 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] O484.43[理学—物理]