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作 者:徐明丽[1]
出 处:《热加工工艺》2014年第8期139-141,共3页Hot Working Technology
基 金:国家自然科学基金资助项目(51164017)
摘 要:利用交流电沉积法,在减薄阻挡层的阳极氧化铝(AAO)模板上制备了金属Ni纳米线有序阵列。通过AFM、SEM、TEM、EDS、XRD和XPS等对纳米线进行了多方面的表征,结果表明:Ni纳米线的直径为65-75nm,与AAO模板的孔径基本接近,纳米线呈实心线,具有多晶结构,其表面被氧化成NiO,但纳米线内部仍为Ni单质态;交流电沉积过程中,纳米线的生长经历了刚好生长至模板表面和纳米线超出模板表面以致连成一片而覆盖整个模板的两种状态。By alternating deposition method, Ni nanowire arrays were prepared with the help of anode aluminum oxide (AAO) of the barrier layer being thinned. Morphology and structure of nanowires were characterized by AFM, SEM, TEM, EDS, XRD and XPS. The results show that the diameter of Ni nanowire is 65-75 nm, closing to pore diameter of the AAO template. The nanowire is a solid line with the polycrystalline structure. The surface of nanowire is oxidized to NiO, but still Ni in the interior. In alternating deposition process, the growth of nanowires experiences two stages: nanowire just grows to the surface of template and nanowire grows to excess the surface of template so as to cover the entire template.
关 键 词:镍纳米线 阳极氧化铝模板 交流电沉积 纳米线阵列
分 类 号:TQ153.2[化学工程—电化学工业]
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