基于MCVD设备的RIT/RIC套管工艺探索  

作　　者：孙可元 吴江华 李庆国 

机构地区：[1]浙江省富通集团有限公司光纤制备技术工程技术研究中心,浙江富阳311422

出　　处：《现代传输》2014年第2期54-55,共2页Modern Transmission

摘　　要：本文主要针对RIT/RIC套管工艺技术的缺陷,阐述利用MCVD工艺,在MCVD设备上进行芯棒制备,同时通过优化蚀刻套管技术,利用MCVD制备芯棒自身优点,在不移动芯棒的情况下,成功完成套管大棒化制备过程。

关 键 词：RIT RIC套管技术 MCVD工艺 蚀刻 大棒化 

分 类 号：TM216.5[一般工业技术—材料科学与工程]