Linnik偏振白光干涉微纳测量的关键技术研究  

作　　者：董敬涛[1] 卢荣胜[1] 

机构地区：[1]合肥工业大学

出　　处：《机械工程学报》2014年第9期121-121,共1页Journal of Mechanical Engineering

摘　　要：随着机械、电子、光学、材料和半导体等工业不断微型化、精密化的需求，开发的微纳米结构的三维形貌、表面膜厚、内部结构以及物理性质等特性对微纳米结构的研发和生产质量控制至关重要。因此，针对微纳米制造领域的三维非接触式测量系统及其技术的研究具有重要的学术价值和现实意义。

关 键 词：非接触式测量系统 白光干涉 技术 微纳米结构 偏振 生产质量控制 三维形貌 物理性质 

分 类 号：TN253[电子电信—物理电子学]