光刻机自动对准工作台控制系统设计  

The Control System Design of Alignment Stage for Mask Aligner

作　　者：刘玄博[1] 周庆奎[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京101601

出　　处：《电子工业专用设备》2014年第1期42-44,56,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm,因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。The Alignment Stage is a key com ponent of Mask Aligner,and it acts some important movements and functions, e.g. Wedge Error Compensation, Locked the chuck, Corresponding alignm ent and exposure gap,A ligning wafer to mask,etc. It's design is complicated and smart,it contains complex pneum atic control,high-speed,high-precision motion control.The motion precision determ ines the alignm ent precision. Now the Mask Aligner alignm ent precision has reached 0.5um , and the motion precision must be over the alignm entprecision.

关 键 词：掩模光刻机 工作台 控制系统 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]