周庆奎

作品数:7被引量:8H指数:2
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供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文主题:光刻机找平曝光机分辨率控制研究更多>>
发文领域:电子电信机械工程更多>>
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快慢自适应大夹持力机构设计及实验验证
《电子工业专用设备》2024年第1期58-62,68,共6页田世伟 周庆奎 赵宏亮 赵宝君 宋婉贞 班超 
通过快慢自适应夹持机构的锁紧和开启可以实现部件之间紧密地连接和分离,为保证提供足够且稳定的垂向夹持力,在该机构设计过程中采用了大杠杆比例的机械原理;同时考虑到部件之间的连接需要快速完成,在该机构设计过程中考虑了气路原理设...
关键词:快慢自适应 气路原理设计 夹持机构 部件连接 电控方案 力测试 
半导体设备运动控制系统接口设计被引量:1
《电子工业专用设备》2023年第1期31-33,49,共4页宋婉贞 周庆奎 陈高升 刘宝航 
在多自由度纳米级运动平台的运动控制系统架构中,运动控制器和电机驱动器之间增加了运动控制系统接口的设计,用于实现光纤接口和模拟量控制接口的转换,从而完成运动平台的驱动控制。运动控制系统接口的设计主要针对光纤接口的运动控制...
关键词:半导体设备 运动控制架构 系统接口设计 硬件 现场可编程逻辑门阵列程序(FPGA) 
接触/接近式光刻UV-LED光源测试分析与工艺研究
《电子工业专用设备》2021年第1期1-4,33,共5页陈威 党景涛 王河 周庆奎 庞超群 
通过对比混波UV-LED(Ultraviolet Light Emitting Diode)光源和单波UV-LED光源的性能和工艺实验,优化了混波UV-LED光源光刻工艺。光源性能主要对比了两种光源最大光照强度和光强均匀度,工艺实验选用不同光照强度15 mW/cm^(2)、20 mW/cm^...
关键词:光刻机 UV-LED光源 光刻工艺 
接触接近式光刻机微力找平技术被引量:1
《电子工业专用设备》2016年第11期26-28,共3页李霖 周庆奎 
介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
关键词:光刻机 微力找平 厚胶光刻 
光刻机自动对准工作台控制系统设计
《电子工业专用设备》2014年第1期42-44,56,共4页刘玄博 周庆奎 
光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻...
关键词:掩模光刻机 工作台 控制系统 
接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例被引量:4
《电子工业专用设备》2012年第6期24-25,30,共3页李霖 周庆奎 宫晨 
不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的...
关键词:曝光机 曝光方式 曝光工艺 必要性 
掩模光刻机中找平控制研究被引量:2
《电子工业专用设备》2010年第11期1-3,30,共4页周庆奎 刘玄博 李霖 
基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距...
关键词:掩模光刻机 找平 分辨率 找平判断 压力采集 找平压力控制 
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