李霖

作品数:6被引量:9H指数:2
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供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文主题:曝光机找平光刻机分辨率控制研究更多>>
发文领域:电子电信机械工程更多>>
发文期刊:《电子工业专用设备》更多>>
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晶圆传输机械手的实现途径及其结构设计被引量:1
《电子工业专用设备》2023年第5期74-80,共7页杨树文 李霖 于朋扬 李峥 
晶圆传输是集成电路制造设备的组成部分之一;研究晶圆传输核心部件机械手的实现途径和国内外的技术状况,分析晶圆传输机械手的更新和迭代,探讨传输精度和效率的优化措施。通过对应用技术和需求分析,对其机械结构和末端执行器进行逆向设...
关键词:半导体制造工艺与设备 结构设计 逆向设计 机械手 末端执行器 晶圆传输 
接触接近式光刻机微力找平技术被引量:1
《电子工业专用设备》2016年第11期26-28,共3页李霖 周庆奎 
介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
关键词:光刻机 微力找平 厚胶光刻 
光刻机双面对准精度测量系统被引量:1
《电子工业专用设备》2015年第3期42-45,共4页李霖 贾亚飞 张云鹏 杨建章 
双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标,介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统,并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理,对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。
关键词:测试测量技术 光刻机 双面对准精度 双面对准精度测量系统 
接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例被引量:4
《电子工业专用设备》2012年第6期24-25,30,共3页李霖 周庆奎 宫晨 
不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的...
关键词:曝光机 曝光方式 曝光工艺 必要性 
掩模光刻机中找平控制研究被引量:2
《电子工业专用设备》2010年第11期1-3,30,共4页周庆奎 刘玄博 李霖 
基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距...
关键词:掩模光刻机 找平 分辨率 找平判断 压力采集 找平压力控制 
一种应用于曝光机的新型z向系统方案及实验研究
《电子工业专用设备》2010年第1期37-40,共4页李霖 
z向系统是接触式曝光机的关键部件之一。设计了一种曝光机的新型z向系统方案,该方案采用气动控制的方式,通过控制气体压力来调整接触力,用空气轴承导向,完成找平、微分离的自动控制。对z向系统设计原理进行了详细介绍,并通过实验对其部...
关键词:z向系统 气动控制 空气轴承 
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