接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例  

The Simple Analysis and Example on Exposal Mode of the Mask Aligner

作　　者：李霖[1] 周庆奎[1] 宫晨[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176

出　　处：《电子工业专用设备》2012年第6期24-25,30,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的必要性。Abstract： Different exposal mode is suitable for different exposal process, exposal modes of Mask Aligner are studied and application situation of different exposal mode l s analyzed. A sucessful example of achieving exposal process by technics improvement on exposal mode is provided, and necessity is proved that production process Knowledge of product is integrated in design and study of semiconductor equipment.

关 键 词：曝光机 曝光方式 曝光工艺 必要性 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]