基于狭缝图像的四维光场模型  

4D LIGHT FIELD BASED ON SLIT IMAGES

作　　者：孙政[1] 邓俊辉[1] 唐泽圣[1] 

机构地区：[1]清华大学计算机系

出　　处：《工程图学学报》2000年第3期90-96,共7页Journal of Engineering Graphics

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：近年来基于图像的绘制方法有了很大发展。其中光场方法提供了一种有效的四维参数化模型，但是这种四维函数局限于无遮挡的空间。为了在有遮挡的环境中运行，这种四维光场函数被扩展为五维光场函数。然而该方法在显示速度上仍达不到实时。本文提出基于狭缝图像的四维光场模型，以减少视点在垂直方向上的自由度为代价，使在有遮挡的环境中漫游速度大大加快。本文介绍了这种四维光场的表示和采样、重采样的过程，最后给出了实验结果并讨论了后续的工作。Recently, image-based rendering approach has been developed rapidly. 4D Light Field is one of the efficient models. Because it is limited in non-occluded environment, 5D Light field is expanded from it to solve this problem. But real-time rendering can not be realized. In this paper, 4D light field based on slit images is presented. At the loss of the freedom of vertical direction, the rendering process in occluded environment is much accelerated. We discuss the representation, sampling and resampling of the 4D light field and the result of this approach.

关 键 词：图像 绘制 有遮挡环境 狭缝图像 四维光场模型 计算机 

分 类 号：TP391.41[自动化与计算机技术—计算机应用技术]