用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研究  

Holography Used in Optical Microlithography with High Resolution and Large Field

作　　者：冯伯儒[1] 张锦[1,2] 侯德胜[1] 陈芬[3] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 [2]四川大学物理系,成都610064 [3]四川师范学院物理系

出　　处：《微细加工技术》2001年第1期1-7,共7页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金!资助 (6 9776 0 2 8) ;微细加工光学技术国家重点实验室基金!资助项目(KFS990 1)

摘　　要：介绍一种全息光刻技术的基本原理 ,全息掩模复位精度的影响 ,全息光刻技术的优点及基本应用 ,并对全息光刻系统的设计考虑作了详细介绍 。The primary princeple,hologram mask reposition accuracy,advantages and applications of holographic microlithography are described.Some main aspects of holographic microlithography system design are presented.Also some experimental results are given.

关 键 词：全息微光刻 TIR全息 全息照相技术 高分辨 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TB877[一般工业技术—摄影技术]