微型隧道效应磁强计的设计和加工工艺研究  

Design of Micro Tunneling Magnetometer and Research on its Fabrication Process

作　　者：朱俊华[1] 周兆英[1] 叶雄英[1] 张大成[2] 郝一龙[2] 李婷[2] 

机构地区：[1]清华大学精密仪器系,北京100084 [2]北京大学微电子学研究所,北京100871

出　　处：《微细加工技术》2001年第1期53-56,共4页Microfabrication Technology

摘　　要：介绍了一种新型的基于隧道效应的微型磁强计 ,对其关键工艺进行了分析和实验研究。利用薄片溶解工艺制作了大尺寸的薄膜 ( 3mm× 1mm) ,并且在薄膜的两面都制作了图形结构 。A novel micro magnetometer based on electron tunneling is introduced.The key fabrication processes are analyzed and studied by experiments.The dissolved wafer process is used to fabricate thin films and the structures can be patterned on both sides of the films,which enhance the ability of micromachining.

关 键 词：微机械 磁强计 隧道效应 设计 加工工艺 

分 类 号：TM937.1[电气工程—电力电子与电力传动]