SnO_2/Fe_2O_3复合膜界面电导率特性分析  

Analysis of conductance property of interfaces transition layer for Sn O_2 /Fe_2 O_3multilayer films

作　　者：张文华[1] 

机构地区：[1]华中师范大学化学系,武汉430079

出　　处：《华中师范大学学报（自然科学版）》2001年第1期61-63,共3页Journal of Central China Normal University：Natural Sciences

基　　金：国家自然科学基金资助课题 !(880 1 0 1 0 2 )

摘　　要：等离子体化学气相淀积法 (PCVD法 )制备的复合膜 Sn O2 /Fe2 O3界面电导特性是由于非平衡反应生成的过渡层的结果 .其电导机理可用半导体薄膜理论来阐明 :当锡在 Fe2 O3中的浓度低时 ,由于准自由电子补偿机制起作用 ,导电率升高 ;当锡与铁在过渡层中浓度接近时 ,杂质散射和晶界电阻增大 。The conductance property of Sn O2 /Fe2 O3mutilayer thin films prepared by PVCD is different from the monolayer Sn O2 thin films.The experimental result of the conductance property as a function of the Sn O2 thin film on the thin film of Fe2 O3can be interpreted by the theory of amorphous semiconductors.The semiconducting behaviors of bilayer thin films are related to the concentration of Sn O2 .Atlow Sn O2 concentration, n- type donor is the main semiconducting mechanism of the electrical conductivity.At high Sn O2 concentration,the electrical risitivity is increased owing to reflection of donor and grain interfaces risitivity.

关 键 词：电导率 电子补偿 杂质散射 晶界电阻 氧化锡 三氧化二铁 复合膜 电导机理 

分 类 号：O484.42[理学—固体物理]