厚膜光刻工艺在PDP中的应用  

Thick Film Photolithography Technologies for ACPDPs

作　　者：陈秀敏[1] 

机构地区：[1]南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心,南京210016

出　　处：《光电子技术》2001年第1期39-44,共6页Optoelectronic Technology

摘　　要：简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。The thick film photolithography technologies for the fabrication of the electrode, barrier rib and phosphor in the surface discharge ACPDP are introduced. Some of the technology problems are discussed.

关 键 词：厚膜 光刻工艺 等离子体显示器 电极 

分 类 号：TN873.94[电子电信—信息与通信工程]