膜层厚度分布与蒸发源相对位置的设计探讨  

作　　者：郑文汀[1] 戴德星[1] 

机构地区：[1]福州大学物理系

出　　处：《薄膜科学与技术》1991年第4期46-54,共9页

摘　　要：本文用计算机对三台国产镀膜机的膜厚分布进行计算，分析了膜厚均匀产生的主要原因；提出了利用计算机帮助寻找蒸发源的最佳排列，以获得在所要求的基材宽度内的最佳膜厚分布。讨论了真空度对膜厚分布的影响，并提出了膜厚分布的修正公式。

关 键 词：相对位置 镀膜机 卷绕式镀膜机 蒸发源 膜层膜厚分布 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]