半导体材料的新发展  

New Development of Semiconductor Materials

作　　者：林兰英[1] 叶式中[1] 

机构地区：[1]中国科学院半导体研究所,北京100083

出　　处：《半导体情报》1992年第6期1-5,共5页Semiconductor Information

摘　　要：近来,半导体科学主要的发展方向是制作高完整性和大面积杂质均匀的衬底材料和超薄外廷材料,并研究它们的特殊性能。本文主要对半导体材料的发展作一简单评述。The developing direction of semiconductors is mainly to research and produce the substrate materials with high completion, and uniform impurity profiled on the large areas andultrathin epitaxial materials. This paper gives a simple comment on these materials.

关 键 词：半导体 材料 工艺 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]