检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:舒继武[1] 郑纬民[1] 沈美明[1] 黄汉臣[2]
机构地区:[1]清华大学计算机科学与技术系,北京100084 [2]香港理工大学机械工程系
出 处:《计算物理》2001年第3期230-234,共5页Chinese Journal of Computational Physics
基 金:国家自然科学基金! (No .6 99330 2 0 );国家重点基础研究发展规划项目! (No .G19990 32 70 2 )资助项目
摘 要:基于集群并行系统 ,实现了运用蒙特卡罗方法模拟 10 0× 10 0× 10 0个原子Si衬底Al薄膜淀积过程的并行计算 .采用了重叠的区域分解法和异步通信的有效并行计算策略 ,将区域的合理划分与薄膜淀积的空间填补的拓扑几何机理结合起来 ,着重减少通信耗费 ,提高算法的并行性能 ,大量地缩短了薄膜淀积模拟计算时间 ,从而为运用计算机方法模拟薄膜淀积、完成薄膜材料淀积的预测提供了更高效的手段 .An approach to the parallelization is proposed on the network of workstation,that simulates the produce of the thin film deposition with a scale of 100×100×100 atomic sites in three-dimension by Monte Carlo method.It uses a efficient parallel algorithm for the thin film deposition simulation using domain decomposition and asynchronous parallel communication,and adopts the reasonable division of domain with the topology geometric of space filling in the film deposition process.The results show that parallel processing generated by these methods can make communication overhead fallen off considerably,and the parallel performance of algorithm improved and computation time for the thin film deposition decreased largely. [
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