浅谈低辐射玻璃  

STUDY OF LOW EMISSIVITY GLASS

作　　者：龚建华[1] 张浙军 

机构地区：[1]合肥工业大学机械与汽车学,安徽合肥230009 [2]沈阳金博真空工程有限公司,辽宁沈阳110015

出　　处：《真空与低温》2001年第2期110-113,共4页Vacuum and Cryogenics

摘　　要：为了论述低辐射玻璃的辐射特征，简略阐述了低辐射膜层的物理基础和膜系结构， 着重从低辐射膜的制备工艺来看待国产相应设备在气氛隔离方面的不足，探讨了解决这一问 题的可行方法。The physical principle and membranous structure of low emissivity fil m are introduced. The disadvantage in gas isolating on the home equipment of fil m producing process is discussed and a feasible method to solve it is also given .

关 键 词：真空镀膜 镀膜工艺 镀膜设备 镀膜玻璃 制备工艺 低辐射玻璃 气氛隔离 辐射膜 

分 类 号：TQ171.738[化学工程—玻璃工业]