同步辐射X射线光刻技术  

SYNCHROTRON RADIATION X RAY LITHOGRAPHY TECHNOLOGY

作　　者：张东平[1] 乐德芬[1] 胡一贯 

机构地区：[1]中国科技大学物理系,安徽合肥230026 [2]国家同步辐射实验室,安徽合肥230027

出　　处：《应用光学》2001年第4期40-44,48,共6页Journal of Applied Optics

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (No:6 9876 0 2 6 )

摘　　要：同步辐射 X射线光刻 (SRXL)是本世纪超大规模集成电路 (VLSI)发展中最有希望的深亚微米图形加工技术 ,本文综述了 SRXL技术研究的现状及存在的问题 。Synchrotron radiation X ray lithography(SRXL) is a promising technology for fabricating very large scale integrated(VLSI) devices with dimensions of sub 0.1 μm this century.In this article,recent advances in SRXL are reviewed,and its existing questions and developing directions are also presented.

关 键 词：同步辐射 X射线 光刻技术 集成电路 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]