Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究  

Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films

作　　者：罗佳慧[1] 李燕[1] 杨成韬[1] 

机构地区：[1]电子科技大学信息材料工程学院,成都610054

出　　处：《光学学报》2001年第6期673-675,共3页Acta Optica Sinica

摘　　要：采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜 ,研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为 470℃时 ,在硅 (10 0 )晶面上生长的 30层Cu/Ti膜 ,层间膜厚控制在1∶3、膜总厚度控制为 30 0nm时 ,所制备的超晶格薄膜在 5°入射角下对 2 0 0nm的紫外光 ,其反射率可高达 90 %。One-dimensional and two-component Cu/Ti superlattice films have been deposited by DC magnetron sputtering. The influences of substrate temperature, periodic number and substrate structure on UV-reflectivity of Cu/Ti superlattic films are studied. The films fabricated at 470 ℃ substrate temperature, on Si(100) substrate and with 30 pair layers have a high UV-reflectivity of about 90% at 200 nm and 5° from normal incidence.

关 键 词：磁控溅射 超晶格膜 紫外光 反射率 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]