蒙特卡罗法模拟新型扫描电镜的工作原理  

MONTE CARLO SIMULATION OF THE PRINCIPLE OF A NEW SCANNING ELECTRON MICROSCOPE

作　　者：蒋昌忠[1] 李承斌[1] 

机构地区：[1]武汉大学物理科学与技术学院,湖北武汉430072

出　　处：《计算物理》2001年第5期470-472,共3页Chinese Journal of Computational Physics

基　　金：国家自然科学基金 ( 10 0 45 0 0 1;10 0 5 0 0 0 1);教育部骨干教师基金;武汉大学邵逸周研究基金资助项目

摘　　要：根据新型分析扫描电子显微镜的工作原理及载能电子束和固体相互作用原理 ,利用蒙特卡罗方法模拟入射电子和靶物质的相互作用过程 ,编制了蒙特卡罗模拟计算程序 ,获得了对应不同电镜工作参数的入射电子背散射率 .According to the principle of a new scanning electron microscope and the mechanism of the interaction between electron beam and solid target,the trajectories of an incident electron in a sample are simulated,a simulation program is compiled using the Monte Carlo method,and the backscattering coefficients corresponding to different parameters of the SEM are obtained. [

关 键 词：蒙特卡罗方法 模拟计算程序 扫描电子显微镜 背散射电子 工作原理 

分 类 号：TN16[电子电信—物理电子学] O242.2[理学—计算数学]