薄膜微波电路制造新工艺  

作　　者：王丛香[1] 刘刚[1] 等 

机构地区：[1]信息产业部电子14所

出　　处：《混合微电子技术》2001年第2期50-52,共3页Hybrid Microelectronics Technology

摘　　要：介绍了薄膜微波电路制造的新工艺，包括一次性蒸厚铜工艺和表面金属化的铬层钝化镀金、化学镀镍／化学镀金工艺。将此新工艺用于L波段低噪声放大器电桥的制造和高功率开关的研制，取得了满意的效果。

关 键 词：集成电路 制造工艺 薄膜微波电路 

分 类 号：TN45[电子电信—微电子学与固体电子学]