金属离子注入聚合物纳米结构形成和导电机理  

作　　者：吴瑜光[1] 张通和[1] 张荟星[1] 张孝吉[1] 周固 

机构地区：[1]北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,低能核物理研究所,北京市辐射中心,北京100875 [2]北京师范大学分析测试中心,北京100875

出　　处：《中国科学（E辑）》2001年第5期399-404,共6页Science in China(Series E)

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :5 96 710 5 1);国家"八六三"计划资助项目

摘　　要：采用MEVVA离子注入机引出的Ag ,Cu ,Ti和Si离子注入聚酯薄膜 ,注入后的聚酯膜电阻率大大降低了 .用透射电子显微镜观察注入聚酯膜的横截面 ,TEM照片表明 ,在注入层中形成了纳米金属颗粒和富集的碳颗粒 .用X射线衍射测量了注入层中结构的变化和新相的形成 。

关 键 词：金属离子注入 电阻率 纳米颗粒 导电机理 高分子聚合物 表面金属化 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]