下一代光刻候选技术:极紫外光刻  

作　　者：黄俊峰 

出　　处：《光机电信息》2001年第9期8-11,共4页OME Information

摘　　要：紫外光刻被认为是经典光刻的潜在替续者,本文给出几种典型的具有现代水平的设计,着重介绍环场投影系统的设计特色,讨论了某些新设计的投影系统的特殊性质。

关 键 词：极紫外光刻 环场投影系统 反射系统 集成电路 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]