掺钕三硼酸铋晶体(Nd:BiB_3O_6)的光谱性质  

作　　者：江怀东[1] 滕冰[1] 王继扬[1] 胡小波[1] 刘宏[1] 张承乾[1] 

机构地区：[1]山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100

出　　处：《中国科学（B辑）》2001年第5期428-432,共5页Science in China(Series B)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号: 59823003)

摘　　要：采用顶部籽晶法, 生长了掺钕的新型非线性光学晶体Nd:BiB3O6, 测量了该晶体的折射率, 并拟合了晶体的折射率色散参数. 同时还测量了晶体的室温吸收谱, 并与0.2 mol/L的 NdCl3溶液的室温吸收谱进行了分析比较. 根据Judd-Ofelt理论, 拟合出晶体场唯象强度参数: Ω2 = 0.1776 × 10-20, Ω4 = 0.1282 × 10-20, Ω6 = 0.1357 × 10-20 cm2. 计算了各能级的辐射跃迁几率AJ,J', 荧光辐射寿命τ, 荧光分支比βJ'， 振子强度fJ,J'等. 根据这些光学参量, 讨论了该晶体的部分性能和应用前景.

关 键 词：Nd:BiB3O6晶体 JUDD-OFELT理论 光谱参数 掺钕三硼酸铋晶体 顶部籽晶法 非线性光学 

分 类 号：O734[理学—晶体学]