第2届亚洲化学气相沉积大会简介  

作　　者：应萱同[1] 

机构地区：[1]复旦大学信息科学和工程学院光科学和工程系

出　　处：《国际学术动态》2001年第5期52-52,共1页International Academic Developments

摘　　要：第2届亚洲化学气相沉积(CVD)大会于2001年5月28～30日在韩国古都庆州举行。这是继1999年中国上海首届亚洲化学气相沉积(CVD)大会之后的又一次亚洲CVD科学工作者和世界各国知名科学家的盛会。来自中国、日本、韩国、新加坡、美国、英国、法国、澳大利亚、乌克兰等国的100多位科学家出席了会议。会议收集论文108篇,其中中国代表的论文有17篇。会议设3个分会场,分CVD基本理论、CVD过程、扩散势垒、碳纳米管、纳米结构、金刚石、碳化硅、锗化硅、量子阱、氧化物、三族氮化物、金属、磁性薄膜、有机薄膜等20余专题宣读论文和讨论。笔者主要参加了CVD金刚石专题的分会,复旦大学在会上发表了3篇论文,分别为王季陶的《用于激化蒸汽的非平衡态现代热力学》,作者指出这个新理论不但可以用于CVD金刚石薄膜的生长过程分析,而且可以用于立方氮化硼、碳氮化物、C60、碳纳米管的生长过程分析,对于非平衡态CVD过程具有普遍的指导意义。

关 键 词：第2届亚洲化学气相沉积 CVD 薄膜 

分 类 号：O484[理学—固体物理]