钇离子束动态增强沉积氮化钛膜  

Y ion beam dynamic enhanced deposition of TiN film

作　　者：张涛[1] 侯君达[1] 李国卿[2] 

机构地区：[1]北京师范大学低能核物理研究所,北京辐射中心北京100875 [2]大连理工大学物理系,大连116023

出　　处：《核技术》2002年第1期25-28,共4页Nuclear Techniques

基　　金：国家 8 6 3计划项目 (86 3- 715 - 2 3- 0 2 - 0 1)资助

摘　　要：在膜层上接收注入钇离子和沉积钛原子比例Y+ :Ti=1:12的条件下 ,采用钇离子束动态增强沉积方法 ,在纯铁等基体上制备氮化钛膜层试样。对试样予以电化学测试和AES、XRD分析。XRD结果未发现钇单质或氮化钇的衍射峰。载能金属离子的动态增强沉积作用产生了界面混合效果 ,形成较宽的过渡层。动态增强沉积试样比非增强沉积试样有更强的抗电化学腐蚀能力。TiN film was formed on iron substrate by Y ion beam dynamic enhanced deposition. The ratio of Y ions and Ti atoms arriving the film Y +:Ti=1:12. The film was characterized with AES, XRD and anode polarization analyses. A 50nm width of interlayer was formed between the film and the substrate. This process has an advantage over the non-IBED process in improving the corrosion resistance of TiN-iron sample.

关 键 词：动态增强沉积 钇离子束 表面改性 氮化钛膜 金属 铁基体 抗蚀性能 抗电化学腐蚀能力 

分 类 号：TG174.45[金属学及工艺—金属表面处理] TG178[金属学及工艺—金属学]