XeF激光器中XeF_2气体的监测  

XeF_2 measurement in XeF laser

作　　者：赖富相 张永生[2] 

机构地区：[1]昆明技术物理研究所,昆明650223 [2]西北核技术研究所,西安710024

出　　处：《激光技术》2001年第6期469-472,共4页Laser Technology

摘　　要：给出了一种用吸收光谱法实时监测XeF激光器中XeF2 气体压强的方法 ,标定了XeF2气体在波长为 2 5 3.7nm处的吸收截面的大小σXeF22 53 .7=(1.5 5± 0 .0 5 )× 10 - 19cm2 。用该监测系统测量了XeF2 气体与 3种作为激光器气室材料的反应速率 ,同时研究了XeF蓝绿激光器中输出激光能量与XeF2 气体压强的关系。A method of non contact and real time measurement for XeF 2 pressure in the XeF laser cell is provided in this paper.The absorption cross section of XeF 2 at wavelength of 253.7nm σ XeF 2 253.7 = (1.55±0.05)×10 -19 cm 2 is obtained.Using the same measurement system,the suitable laser tube materials is choosed and the relations between laser output energy and the pressure of XeF 2 are presented.

关 键 词：XEF2 吸收截面 准分子激光 氟化氙激光器 气体监测 压强监测 反应速度 

分 类 号：TN248.22[电子电信—物理电子学]