用双源蒸发台制作混合电路用的Cr·SiO薄膜电阻器  

Cr·SiO Thin Film Resistors Fabricated by Double-Sourse Evaporation

作　　者：赵亚民[1] 

机构地区：[1]西安微电子技术研究所,西安710054

出　　处：《电子元器件应用》2001年第10期36-38,共3页Electronic Component & Device Applications

摘　　要：本文简要介绍使用钟罩型真空镀膜机和双源蒸发工艺制作高质量Cr·SiO薄膜电阻器的探索与实践,结果表明,这是一种基于原有设备的具有工艺简单稳定、流程短而效率较高的实用新工艺,完全可以替代原有工艺而投入生产。This paper briefly introduces high-Q Cr·SiO thin-film resistors by double-source evaporation and bell-jar vaccum-plater. The result shows, this technology has simpler process, shorter turnaround, higher efficiency and well suitabe for practical production.

关 键 词：双源蒸发台 薄膜电阻器 混合电路 铬 氧化硅 

分 类 号：TM544[电气工程—电器]