等离子腐蚀技术  

作　　者：Tina J.Cotler 马长青 

出　　处：《微电子学》1991年第4期60-65,共6页Microelectronics

摘　　要：用腐蚀复印图形是微电子生产的一个组成部分。化学(湿法)腐蚀是最早的刻蚀技术,它有一定的局限性,包括掩模与衬底的附着力差,缺乏各向异性的化学性质,因而不能复印微米或亚微米尺寸的拓朴元件。还有腐蚀液难于渗入狭窄的。

关 键 词：微电子学 集成电路 等离子腐蚀 

分 类 号：TN405.982[电子电信—微电子学与固体电子学]