强流离子注入均匀性控制  

UNIFORMITY CONTROL OF HIGH CURRENT ION IMPLANTATION

作　　者：徐道林[1] 

机构地区：[1]机电部第48研究所,长沙410111

出　　处：《微细加工技术》1991年第1期7-13,共7页Microfabrication Technology

摘　　要：本文讨论了强流离子注入机的全机械扫描靶室中实现剂量高均匀性和高重复性注入的变速扫描设计原理及控制技术。Design principles of speed change scanning and control techniques to realize high uniformity and high repeatability of implantation dose in full mechanical scanning target chamber of high current implantation system are discussed.

关 键 词：离子注入 均匀性 机械扫描 

分 类 号：TN305.3[电子电信—物理电子学]