检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:童志义[1]
机构地区:[1]信息产业部电子第四十五研究所,甘肃平凉744000
出 处:《电子工业专用设备》2002年第1期2-6,共5页Equipment for Electronic Products Manufacturing
摘 要:概述了当前光学光刻技术现状及今后发展目标 ,并结合设备市场介绍了ASML、Canon、Nikon 3大设备制造商概况。This paper reviews the technology status and the roadmap of optical lithography,the equipment market was also introduced with ASML,Canon,Nikon three major manufacturers.
分 类 号:TN605[电子电信—电路与系统]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.13