Fe-Zr-B非晶磁性薄膜制备工艺对性能的影响  

A Study of Effect of Process on Properties of Fe-Zr-B Amorphous Thin Film

作　　者：徐炜新 程新利[2] 金惠娟 章靖国 许裕生[3] 

机构地区：[1]上海市金属功能材料应用与开发重点实验室 [2]中科院上海冶金研究所,上海200050 [3]江苏省苏州大学,苏州215006

出　　处：《上海钢研》2002年第2期15-19,共5页Journal of Shanghai Iron and Steel Research

摘　　要：用JGP560D型双室多功能磁控溅射仪成功制备了Fe-Zr-B非晶磁性薄膜,并获得了良好的磁性能。研究了制备工艺对薄膜性能的影响。Fe-Zr-B amorphous thin film with good magnetic properties has been successfully prepared by DC Magnetron sputtering. The effect of process on its properties has been discussed.

关 键 词：Fe-Zr-B合金 非晶薄膜 磁控溅射 磁性能 制备工艺 

分 类 号：TM27[一般工业技术—材料科学与工程] TG139.8[电气工程—电工理论与新技术]