用半导体工业的超纯水发生高浓度臭氧化水的新方法  

作　　者：Miyamoto,Makoto 

出　　处：《水处理信息报导》2002年第3期37-37,共1页

关 键 词：臭氧化 超纯水 半导体工业 超纯水 

分 类 号：TQ085[化学工程]