六自由度离子束抛光设备控制系统关键技术研究  

Research on Key Technology of Control System for 6-dof Ion Beam Polish Machine

作　　者：吉方[1,2] 陈东生[2] 徐敏[1] 戴晓静[2] 

机构地区：[1]复旦大学信息科学与工程学院,上海200433 [2]中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900

出　　处：《组合机床与自动化加工技术》2014年第7期88-90,共3页Modular Machine Tool & Automatic Manufacturing Technique

基　　金：国家科技重大专项课题:复杂结构光学零部件抛光与关键加工技术的特种装备(2011ZX02402-002);上海市科委科研计划项目:上海超精密光学制造工程技术研究中心课题(11D2282200);中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室课题:复杂面型柔性抛光多轴联动精确控制技术研究(K813-13-Y)

摘　　要：介绍了六自由度离子束抛光机床控制系统的总体构架。重点对控制系统研制过程中的关键问题进行探讨,包括特殊真空环境下的驱动控制措施、高真空抽取及稳定性控制方法以及离子源参数的稳定性控制策略。This paper introduces the control system frame of ion beam polish machine.emphatically discusses the key problem during designing and manufacturing of the control system,including the driven control measure in vacuum environment、the obtaining of high vacuum、the means about vacuum control、the control strategy of ion parameter stability

关 键 词：离子源 高真空环境 驱动控制 稳定性 

分 类 号：TH166[机械工程—机械制造及自动化] TG65[金属学及工艺—金属切削加工及机床]