Al掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性研究  

作　　者：辛萍[1] 刘洋[1] 石晓林[1] 

机构地区：[1]吉林工商学院基础部,吉林长春130062

出　　处：《赤子》2014年第10期294-294,共1页

摘　　要：采用射频反应磁控溅射方法,在Si(100)基片和石英基片上制备了具有高c轴择优取向的Al掺杂ZnO薄膜。利用X射线衍射、电子探针、透射光谱、光致荧光光谱等表征方法,研究了Al掺杂ZnO薄膜的成分、结构和光学性能。结果表明,薄膜具有六方纤锌矿结构,并具有较好的结晶特征。在可见光及红外光范围内,薄膜具有较好的透明度;利用反转调试法拟合了透射光谱,得到了薄膜的厚度值。通过光致荧光光谱的测量探讨了Al元素的掺入对ZnO的带隙宽度的影响,发现在相同温度下,Al掺杂量较高的样品,其带边发光峰位明显向高能端偏移。

关 键 词：Al掺杂ZnO 磁控溅射 透射光谱 光致荧光 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]