EACVD一体化系统衬底温度控制研究  

Control of substrate temperature in the integration electron-assisted chemical vapor deposition system

作　　者：刘利宏[1] 

机构地区：[1]淮安信息职业技术学院机电系,淮安223003

出　　处：《现代制造工程》2014年第10期114-117,共4页Modern Manufacturing Engineering

摘　　要：以电子辅助热丝化学气相沉积(Electron-assisted Chemical Vapor Deposition,EACVD)一体化系统为研究对象,根据金刚石沉积过程中对衬底温度的要求,设计了模糊PID衬底温度控制系统。使用结果表明:该系统对化学气相沉积(CVD)金刚石的衬底温度参数控制精确,能够长时间稳定运行,可以制备出高质量的CVD金刚石涂层。According to the requirement for the temperature in the deposition of the diamond ,a fuzzy-PID compound control meth-od was established in the integration Electron-Assisted Chemical Vapor Deposition （ EACVD） system.The experiment of CVD dia-mond deposition shows that the process parameters can be accurately controlled and the system can apply stable long -term opera-tion.It can be used for the deposition of high quality CVD diamond coating .

关 键 词：电子辅助热丝化学气相沉积 金刚石膜 模糊-线性控制器 衬底温度场 

分 类 号：TB43[一般工业技术] TP273.4[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]