熔铸法制备贫铀溅射靶片  

作　　者：齐永良[1] 邹本慧 郭洪[1] 赵云峰[1] 

机构地区：[1]中核北方核燃料元件有限公司

出　　处：《产业与科技论坛》2014年第13期80-81,共2页Industrial & Science Tribune

摘　　要：为制备高纯度、高密度,高表面光洁度,内部晶粒尺寸细小且均匀分布的贫铀溅射靶片,开展了真空感应精炼、挤压、墩粗热加工、真空热处理工艺试验,制备了实心单质圆柱形贫铀溅射靶片。分析结果表明:贫铀溅射靶片杂质含量少,内部晶粒尺寸<20μm,晶粒分布均匀,密度>18.90g/cm3,柱面粗糙度Ra<0.8μm,端面粗糙度<0.4μm,完全满足磁控溅射铀薄膜对贫铀溅射靶材的技术要求。

关 键 词：贫铀 磁控溅射 靶片 

分 类 号：TG24[金属学及工艺—铸造]