空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(下)  

High rate deposition of photocatalytic TiO_2 fi lms with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method

作　　者：范崇治[1] Yoshiyuki Kubo Yoshinori Iwabuchi Masato Yoshikawa 

机构地区：[1]清华大学

出　　处：《太阳能》2014年第10期10-11,共2页Solar Energy

摘　　要：图4a和4b分别为在UV-近红外光谱，刚沉积和经后退火工艺两种情况下的TiO2膜。以上两种情况在可见光区域透射比几乎相同，与后退火无关。O2流量为10～50sccm时，沉积的TiO2膜在可见光区域具有的高透射比约为0．70。

关 键 词：TiO2薄膜 快速沉积 光催化作用 空心阴极 高活性 溅射法 TIO2膜 后退火工艺 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]