基于纳米压印技术分布反馈激光器阵列的ONU光源研究  

Research of Distributed Feedback Laser Array Using as ONU Light Sources Based on Nanoimprint Lithography

作　　者：陈鑫[1] 赵建宜[1,2] 周宁 曹明德 黄晓东 刘文[1,3] 

机构地区：[1]华中科技大学光学与电子信息学院武汉光电国家实验室,湖北武汉430074 [2]光迅科技股份有限公司,湖北武汉430074 [3]中国科学技术大学先进技术研究院,安徽合肥230026

出　　处：《光学学报》2014年第11期182-187,共6页Acta Optica Sinica

基　　金：国家973计划(2010CB327603);国家863计划(2011AA010304;2011AA010306);武汉市晨光计划(20130701040100330)

摘　　要：利用纳米压印工艺及对接生长工艺制作了基于分布反馈(DFB)激光器阵列的适用于波分复用光无源网络(WDM-PON)光网络单元(ONU)的低成本光源芯片。器件使用单片集成多模干涉器进行合波输出。测试结果显示,器件平均阈值小于10mA,边模抑制比大于40dB,波长调谐范围大于10nm,出光功率大于0.2mW。Low cost optical network unit （ONU） light sources based on tunable distributed feedback （DFB） laser array using for wavelength division multiplexing-passive optical network （WDM-PON） are fabricated by nanoimprint lithography （NIL） and butt-joint regrowth （BJR）. The multi-mode interference coupler （MMI） is used as output device for the monolithic integrated device. The tested results indicate that, the threshold current is less than 10 mA, side mode suppression ratio （SMSR） is higher than 40 dB, tunable range is wider than 10 nm and output power is larger than 0.2 nW.

关 键 词：光学制造 纳米压印 半导体激光器 单片光子集成 

分 类 号：TN248[电子电信—物理电子学]