2014年第四届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕  

出　　处：《微纳电子技术》2014年第11期752-752,共1页Micronanoelectronic Technology

摘　　要：10月29—31日，“2014年第四届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会”在上海举办。会议由复旦大学信息科学与工程学院纳米光刻与应用研究中心（FUNARC）承办，同时得到了捷伊欧半导体贸易（上海）有限公司（JEOL Shanghai Semiconductors Co．，Ltd．）、光映科技股份有限公司（Stella Technology Co．，Ltd．）、GenISys GmbH、卡尔蔡司（上海）管理有限公司（Carl Zeiss（Shanghai）Co．，Ltd．）、爱德万测试（中国）管理有限公司以及日本特许机器株式会社等单位的大力支持。

关 键 词：技术委员会 技术交流会 微光刻 年会 LTD 纳米光刻 工程学院 信息科学 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]