深亚微米光学光刻设备制造技术研究  

作　　者：钟闽和 

机构地区：[1]福州高意通讯有限公司,福建省福州市350014

出　　处：《电子技术与软件工程》2015年第1期153-153,共1页ELECTRONIC TECHNOLOGY & SOFTWARE ENGINEERING

摘　　要：光学光刻在不断发展,促进了集成电路的制造,提高了其制造水平。光学光刻的分辨率在逐步提高,其设备面对着巨大的挑战。本文将对深亚微米光学光刻设备制造技术展开研究。

关 键 词：光学光刻 光源 透镜 对准套刻 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]