氮分压对CrN_x薄膜相结构与力学性能的影响  

Effect of N2 partial pressure on the phase formation and mechanical properties of magnetron sputtered CrNx films

作　　者：李戈扬[1] 张俊秋[1] 韩增虎[1] 张惠娟[2] 

机构地区：[1]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030 [2]上海交通大学高温材料及高温测试教育部重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2002年第5期629-630,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：氮分压 CRNX薄膜 相结合 力学性能 氮化铬薄膜 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]