NbN薄膜的反应磁控溅射沉积  

Deposition of NbN films with reactive magnetron sputtering method

作　　者：韩增虎[1] 赖倩茜[1] 田家万[1] 李戈扬[1] 

机构地区：[1]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2002年第5期641-642,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：NbN薄膜 反应磁控溅射沉积 氮分压 微结构 力学性能 TEM XRD 

分 类 号：TB43[一般工业技术]