FD-SOI能否成为28nm以后的集成电路工艺路线  

作　　者：张毓波 

出　　处：《集成电路应用》2014年第12期26-31,共6页Application of IC

摘　　要：FD-SOI工艺在中国能否获得支持和采用正处在关键期。先进半导体制造产线的巨额投资,使FD-SOI工艺、平面工艺、Fin FET工艺之战引人瞩目。FD-SOI被认为是其中的黑马,尽管实际上目前备受关注的是其在平面工艺范畴中的表现,但FD-SOI也具备升级至3D架构的能力。本文将重点关注FD-SOI产业链的诸多环节在一年中发生的变化。

关 键 词：集成电路制造工艺FD—SOI 28nm 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]